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EDI模塊如何清洗
發(fā)布時(shí)間:2025/11/17    新聞來(lái)源:唯賽環(huán)保    瀏覽次數(shù):
        EDI模塊清洗需根據(jù)污染類型選擇化學(xué)清洗(酸洗、堿洗、消毒)或物理清洗,并嚴(yán)格遵循安全操作規(guī)范,以恢復(fù)模塊性能并延長(zhǎng)使用壽命。‌清洗前需斷電并分析污染物類型,清洗后需充分沖洗至中性,并加強(qiáng)預(yù)處理和定期維護(hù)預(yù)防問(wèn)題復(fù)發(fā)。
  清洗方法與步驟
  清洗需基于污染物類型選擇針對(duì)性方案,操作前必須斷電并佩戴防護(hù)用具(如手套、護(hù)目鏡)。核心流程如下:‌化學(xué)清洗‌(適用于無(wú)機(jī)物、有機(jī)物或微生物污染):
  酸洗‌:使用0.5%-2%鹽酸或2%-4%檸檬酸溶液循環(huán)30-60分鐘,去除鈣鎂結(jié)垢等無(wú)機(jī)物。
  堿洗‌:采用0.1%-4%氫氧化鈉溶液(可添加0.1%-0.5% EDTA-2Na或5%NaCl)循環(huán)1-1.5小時(shí),清除有機(jī)物(如TOC)。
  消毒‌:0.2%過(guò)氧化氫溶液循環(huán)50分鐘,殺滅細(xì)菌和生物膜。‌‌
  操作要求‌:清洗壓力控制在0.2-0.4MPa(不超過(guò)0.4MPa),流量200-500L/h,循環(huán)后需用RO產(chǎn)水沖洗至進(jìn)出水電導(dǎo)率差值<50μS/cm或pH中性。‌‌
  ‌物理清洗‌(適用于顆?;蚰z體堵塞):
  拆卸模塊后,用清水沖洗電路板,酒精擦拭油漬,確保電極導(dǎo)電性;必要時(shí)反沖洗降低壓差。‌‌
  ‌混合污染處理‌:分步執(zhí)行酸洗→消毒→堿洗,每步間隔沖洗至中性。‌‌
  清洗頻率與維護(hù)周期
  ‌日常維護(hù)‌:每8小時(shí)檢查進(jìn)水壓力(0.2-0.5MPa)、電阻率(≥15MΩ·cm)和流量波動(dòng)。
  ‌深度清洗‌:每季度化學(xué)清洗一次,并更換前置濾芯。每年至少一次全面拆檢,包括離子交換膜更換和密封性測(cè)試。
  ‌停機(jī)保養(yǎng)‌:用0.5%福爾馬林溶液循環(huán)8分鐘封存,防止微生物污染